A/ Lämmastiku tootmine: paljud elektroonikatööstuse protsessid nõuavad kõrge{0}}puhtusastmega lämmastikku ja süsiniku molekule saab kasutada rõhukõikumisega adsorptsiooniga lämmastiku tootmisseadmetes. Kasutades ära süsiniku molekulaarsõelte erinevust õhu hapniku ja lämmastiku adsorptsioonivõimes, adsorbeeritakse hapnik ja muud lisandid rõhu all, võimaldades lämmastikku rikastada. Seega toodetakse kõrge -puhtusastmega lämmastikku ja kasutatakse kaitsegaasina elektroonikakomponentide tootmisel, ladustamisel ja transportimisel, et vältida komponentide oksüdeerumist.
B/ Vesinikpuhastus: mõnede elektrooniliste materjalide tootmisprotsessis on vaja kõrge{0}}puhtusastmega vesinikku. Süsinikmolekulaarsõelad suudavad adsorptsioonieraldusmeetodite abil eemaldada vesinikku{2}}sisaldavatest segagaasidest lisandigaasid, nagu süsinikdioksiid, süsinikmonooksiid ja veeaur, saades seeläbi kõrge-puhtusega vesiniku ja täites elektroonikatööstuse ranged vesiniku puhtuse nõuded.
C/ Õhukuivatus: Elektroonikatööstuse tootmiskeskkonnas on ranged nõuded niiskusele. Süsinikumolekulidel on hea veeimavus ja neid saab kasutada õhukuivatussüsteemides. See võib imada õhuniiskust, vähendada õhuniiskust, luua kuiva keskkonna elektroonikakomponentide tootmiseks, vältida probleeme, nagu lühised ja niiskusest põhjustatud korrosioon, ning parandada toote kvaliteeti ja töökindlust.
CHEMXIN on molekulaarsõelaga tegelenud alates 2002. aastast, üle 23 aasta kogemusi tootja-, arendus- ja paigaldusjuhistes. Jagame rohkem juhtumeid ja uurime koos.
E-post: sales@chemxin.com
Veebisait: www.chemxin-en.com